磁光克尔显微及磁力系统
发布于2018-02-22 12:29 文章来源：未知
磁光克尔显微及磁力系统
Magneto-Optical Kerr Microscope & Magnetometer System
[应用简介]
磁性材料的宏观特性，如磁滞、能量损失、磁噪音等，是由磁性材料的微结构决定的，例如由磁畴及其对于磁场激发的反应而决定。因此磁畴的观察对于磁性材料的发展及理解磁化过程都显得尤为重要。
由于需要利用克尔效应，我们提供了高端光学偏光显微镜，并且配备了图片对比增强处理能力。磁光克尔显微镜对于接近样品表面的磁化矢量十分敏感，在进行观察时，任意方向的磁面区域都可以被利用到，这样可以方便地观察到磁畴成核和磁化过程。在同一时间，在样品表面选定的区域上，表面磁滞回线可以进行光学测量（MOKE磁强计）、观察并记录相应磁畴的图片。根据所研究样品的不同，在成像之前可能需要精细的表面抛光。
[技术参数]
Magneto-Optical Kerr Microscope & Magnetometer System
[应用简介]
磁性材料的宏观特性，如磁滞、能量损失、磁噪音等，是由磁性材料的微结构决定的，例如由磁畴及其对于磁场激发的反应而决定。因此磁畴的观察对于磁性材料的发展及理解磁化过程都显得尤为重要。
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Evico磁光克尔显微及磁力系统，是一款利用铁及铁磁材料的磁光克尔效应，来直接观察材料的磁畴及磁化过程的设备。这些材料包括磁性薄膜、多层薄膜、微米及纳米级别的丝线，甚至任何形状的大块材料及单独样品的磁硬度都可以观察。 这是一款半自动化、无接触、无损检测的设备，利用磁光克尔效应，通过光学显微镜系统，可以对直径5mm的样品表面进行观察并绘图，其光学精度可达300nm。 |
由于需要利用克尔效应，我们提供了高端光学偏光显微镜，并且配备了图片对比增强处理能力。磁光克尔显微镜对于接近样品表面的磁化矢量十分敏感，在进行观察时，任意方向的磁面区域都可以被利用到，这样可以方便地观察到磁畴成核和磁化过程。在同一时间，在样品表面选定的区域上，表面磁滞回线可以进行光学测量（MOKE磁强计）、观察并记录相应磁畴的图片。根据所研究样品的不同，在成像之前可能需要精细的表面抛光。
[技术参数]
| 1、偏光显微镜系统 |
| ►精密、宽域光学偏光显微镜（蔡司光学组件），手动聚焦，固定于花岗岩基底，保持机械平衡。 |
| ►总体尺寸（含基底座，光源和摄像机，长*宽*高）：大约300*721*520mm，重量：约50公斤。 |
| ►工作环境：室温+10-40℃，封闭房间。 |
| ►电源：100-127V，或200-240V，50/60Hz，最高不超过260VA。 |
| ►物镜（放大倍率/数值孔径）：20x/0.5，50x/0.8，100x/1.3油镜。 |
| ►可选物镜：2.5x/0.06，5x/0.13，10x/0.25，100x/0.9干物镜，以及长工作距离物镜20x/0.22和50x/0.75。所有物镜都是无磁的。 |
| ►可调式入射狭缝光栅：垂直和偏斜率在0-90°之间根据显微镜中心轴可选变换，从而允许用户选择：两个直角感应方向的纵向克尔效应，或者全部磁化组件的极向克尔效应。 |
| ►可调光视场光栅，有不同开口。 |
| ►起偏镜用于增强克尔效应，360°旋转。 |
| ►摄像机适配器，C型接口。 |
| ►管式旋转装置，带Bertrand透镜，从而允许通过直接观察显微镜的焦平面来调整入射光。 |
| ►光学变焦镜头：1x，2.5x，4x，增加显微镜的放大倍数（非分辨率）。 |
| ►修正照明透镜系统：使所有物镜都有统一的磁光对比度。 |
| ►目镜会对用户的眼睛屈光不正进行。 |
| ►六个托架的射射器转动架，用于更换P&C反射器模块，磁光克尔显微镜的标准反射器模块包含在内。 |
| ►物镜架上有6个M27型物镜托架。注意：如果显微镜装有电磁铁，则同一时间只能使用一个托架。 |
| 2、光源参数 |
| 高强度、稳定的LED光源。 |
| 使用寿命：大约50000小时（强度>70%）。 |
| 总体尺寸：125*120*135mm，2公斤。 |
| 输入电源：12 VDC，最大50 VA，50/60 Hz。 |
| 谱线（和100W卤钨灯做对比）： |
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| 3、CCD相机 |
| ►低噪音、高灵敏度CCD相机，自带冷却。 |
| ►帧数率：8.8-43帧/秒（取决于分辨率）。 |
| ►分辨率：最大137万像素，1344*1024。 |
| ►可选像素：2*2，4*4，8*8；宽动态范围：2100：1。 |
| ►消耗功率：24 VA，C型接口。 |
| ►尺寸：155×65×65毫米，重量0.8公斤。 |
| 4、测量用电脑及软件 |
| ►标准电脑，Windows 7系统，英文系统。 |
| ►NI LabView Runtime Licence，或带NI Vision Development 模块的专业版LabView Professional Development Kit (可选)。 |
| ►CCD摄像机控制。 |
| ►磁场控制（直流，交流，旋转，减弱的交流磁场退磁）。 |
| ►图像处理（实时差异技术以消除无磁背景，高信噪比磁畴图像的平均化处理，对比度调整，图像阴影修正以优化图像亮度的均匀性）。 |
| ►记录磁化过程的单张图片或影响。 |
| ►记录表面磁滞回线（MOKE磁力计），同时观察磁畴运动。 |
| ►基本的图像测量功能以支持显微镜调整（强度，直方图，剖面线）。 |
| ►空间图像测量。 |
