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第20届国际分子束外延学术会议落户上海

发布于2018-02-22 21:35    文章来源:未知

国际分子束外延(MBE)会议每2 年举办一次,是全球分子束外延领域最重要的盛会,由美洲、欧洲和亚洲轮流主办。会议的宗旨是展示国际分子束外延及其相关领域的新进展、新动态、新成果,交流和探讨分子束外延发展中存在的问题和未来的发展方向,拓宽分子束外延的应用领域,为从事分子束外延技术以及相关材料和器件研究的科研人员提供相互了解和交流的机会,同时也为分子束外延相关的上下游产业提供信息沟通和宣传的渠道。

 
第20 届国际分子束外延会议由中国科学院上海微系统与信息技术研究所主办,会议定于2018 年9 月2 日~7 日在上海召开,参会人数规模预计超过400 人。此次会议恰逢分子束外延发明50 周年以及国际分子束外延会议召开40 周年,具有非常重要的特殊意义。本次大会拟邀请分子束外延的发明人卓以和先生及各大洲分子束外延奠基人对分子束外延发展以来的重要历史节点和里程碑进行回顾,研讨分子束外延技术的发展与材料学、物理学和信息科学的相互促进和推动,并展望分子束外延后续几十年的发展态势。

20th International Conference on Molecular Beam Epitaxy

September 2-7, 2018, Shanghai, China

After the successful conferences in Nara, Japan (2012), Flagstaff, USA (2014) and Montpellier, France (2016), the 20th International Conference on Molecular Beam Epitaxy will take place in Shanghai, China.

The International Conference on Molecular Beam Epitaxy (ICMBE 2018) provides a prominent international forum for reporting new developments in the areas of fundamental and applied molecular beam epitaxy research, including advances in the technique, synthesis of new materials, discovery of new physical properties, formation of novel heterostructures, and the development of innovative devices.

Organizing Committee Chairs

Conference Chair: Ai-Zhen Li

Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, CAS, China

Program Chair: Li He

Shanghai Institute of Technical Physics, CAS, China

Website Link: 
http://mbe2018.csp.escience.cn